為促進(jìn)新型太陽(yáng)能材料科學(xué)領(lǐng)域的交流和發(fā)展，“第十屆新型太陽(yáng)能材料科學(xué)與技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)”將于2023年5月5-7日在北京中科院物理所舉行， 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司應(yīng)邀攜SuperALD原子層沉積系統(tǒng)參展，該設(shè)備在鈣鈦礦領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。

應(yīng)用：

1、ALD-SnO2 應(yīng)用于鈣鈦礦電池電子傳輸層 

? ALD 相比于傳統(tǒng)沉積技術(shù)，在制備超薄膜時(shí)具有更優(yōu)異的均勻性和保形性，以及缺陷更少的優(yōu)點(diǎn)

2、ALD-NiO 應(yīng)用于鈣鈦礦電池空穴傳輸層 

? ALD 可用于制備性能優(yōu)異的超?。?span lang="EN-US"><10 nm）NiO 空穴傳輸層

3、ALD 應(yīng)用于鈣鈦礦電池鈍化層 

? ALD 超薄膜可以應(yīng)用于界面處，通過(guò)和懸掛鍵反應(yīng)的方式減少表面缺陷，或者排斥載流子，達(dá)到鈍化的效果

4、ALD 應(yīng)用于鈣鈦礦電池封裝 

?致密的 ALD 膜可達(dá)到有效的阻水氧的效果