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脈沖電子束沉積系統(tǒng)（Pioneer 180 PED System）

作者：北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司

產(chǎn)品信息
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名稱：脈沖電子束沉積系統(tǒng)
品牌：Neocera
產(chǎn)地：美國(guó)
型號(hào)：Pioneer 180 PED System

脈沖電子束沉積（Pulsed Electron Deposition）是高能脈沖(100ns) 電子束( 約1000 A,15 keV) 在靶材上穿透將近1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對(duì)靶材的非平衡提?。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學(xué)計(jì)量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學(xué)計(jì)量與沉積薄膜的保持一致。所有的固態(tài)材料如金屬、半導(dǎo)體和絕緣體等都可以用PED 技術(shù)沉積各自的薄膜。
? 獨(dú)立的交鑰匙脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED
? 外延薄膜沉積，多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)（heterostructures）與超晶格
? 氧化物薄膜沉積時(shí)氧氣兼容
? 升級(jí)選項(xiàng)：離子輔助PED, 連續(xù)組份沉積PED, 進(jìn)樣系統(tǒng)load-lock
? 可附加的沉積源：脈沖激光與射頻/ 直流濺射
? 集成XPS/ARPES UHV 集群系統(tǒng)，原位高真空基片傳送系統(tǒng)

真空腔	18" 直徑的球形腔體 8"CF 窗口 6.75"CF PED 源窗口 3 個(gè)6"CF 窗額外的2.75" 與1.33"CF 窗口	PED源	電子槍能量：8-20 keV 脈沖能量：最大能量800 mJ 最小能量100 mJ 工藝氣體壓強(qiáng): 3-20 mTorr 工藝氣體: 氧氣，氮?dú)猓瑲鍤?/span> 脈沖能量變化: ±10% 脈沖寬度: 100 ns 最大重復(fù)率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV 最小束截面: 8 x10-2 cm2 最大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2 Z 向?qū)?zhǔn)范圍: 50 mm XY 向?qū)?zhǔn)范偉: +/- 20 mm 火花塞壽命 ~3x107 脈沖
基片加熱器	最大直徑2"，最小10x10mm2 最高溫度：850 ℃ 基片旋轉(zhuǎn)：1-30 RPM（360° 旋轉(zhuǎn)）基片加熱器：兼容1 個(gè)大氣壓的氧壓加熱器溫度通過(guò)可編程的PID 控制
多靶材旋轉(zhuǎn)臺(tái)	6 個(gè)1" 的靶材或3 個(gè)2" 的靶材靶材旋轉(zhuǎn)：360° 連續(xù)旋轉(zhuǎn)(1-20 RPM) 靶材柵格式掃描獨(dú)特的靶材柵格化燒蝕方案靶材索引，鍍多層薄膜靶材高度可調(diào) 靶材擋板避免靶材間的交叉污染提供連續(xù)組成擴(kuò)展/ 組合PED 的能力	PED系統(tǒng)軟件	Windows 7, LabVIEW 2013控制基片加熱臺(tái) 控制靶材公轉(zhuǎn)臺(tái) 控制真空泵控制質(zhì)量流量計(jì)? 外部的PED 源觸發(fā)器可選的工藝自動(dòng)化選項(xiàng)
真空泵	干泵，渦輪分子泵本底真空壓強(qiáng)：標(biāo)準(zhǔn)配置8 x 10-8 Torr 渦輪分子泵轉(zhuǎn)速由軟件控制

脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED沉積的代表性材料示例

* 高溫超導(dǎo)(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜

* 順電(Ba-SrTiO₃) 薄膜

* 金屬氧化物(SrRuO₃) 薄膜

* 隔熱/ 音玻璃(SiO₂) 膜和Al₂O₃ 膜

* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜

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脈沖電子束沉積系統(tǒng)（Pioneer 180 PED System）