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Allalin 快速定量陰極發(fā)光CL-SEM系統(tǒng)

作者:北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
  • 產(chǎn)品信息
  • 技術(shù)指標(biāo)
  • 應(yīng)用領(lǐng)域
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名稱:Allalin 快速定量陰極發(fā)光CL-SEM系統(tǒng)

品牌:Attolight
產(chǎn)地:瑞士

型號:Allalin


Allalin是一種納米分辨率光譜儀器,基于一種被稱為定量陰極發(fā)光的突破性技術(shù),它將光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡(SEM)集成到一個系統(tǒng)中。Allalin允許“不折不扣”的大視場/ 快速掃描同時獲得掃描電鏡成像與高光譜或全光譜CL圖像。該系統(tǒng)的構(gòu)建是為了在不犧牲掃描電鏡(SEM)性能的前提下獲得的陰極發(fā)光性能:光學(xué)顯微鏡和掃描電鏡的物鏡被周密的整合在一起,使它們的焦平面相互匹配;光學(xué)顯微鏡以亞微米精度加工,與傳統(tǒng)的CL技術(shù)相比,具有高數(shù)值孔徑(N.A.0.71)的消色差、高數(shù)值孔徑(N.A.0.71)檢測,在大視場(高達(dá)300 μm)下具有優(yōu)越的光子收集效率。因此,定量陰極發(fā)光,其中與儀器系統(tǒng)相關(guān)的組件所引入的誤差可以從本質(zhì)上被排除掉,這使陰極發(fā)光變的可信。 

Allalin是為那些需要遵循嚴(yán)格的技術(shù)路徑和快速獲取非常精確的光譜信息而設(shè)計的,而這些信息是傳統(tǒng)方法無法比擬的。

在半導(dǎo)體故障分析、開發(fā)和研究中,Allalin的光譜測量能力為快速可靠的缺陷檢測和定位提供了解決方案。經(jīng)過驗證的數(shù)據(jù)類型包括位錯密度、材料成分波動、應(yīng)變、摻雜劑類型和濃度的測量;以及其他廣泛的應(yīng)用。

在科學(xué)研究中,Allalin能夠創(chuàng)建納米分辨率的光譜圖,這使得它成為深入了解納米尺度材料物理特性的工具。

Allalin擁有一套全面的功能選項:覆蓋紫外-紅外波長范圍的各種探測器選擇、SE檢測器、穩(wěn)定的低溫樣品臺和高靈敏度的EBIC(電子束感應(yīng)電流)檢測解決方案。



技術(shù)參數(shù)

電子光學(xué)系統(tǒng)

– 肖特基熱場發(fā)射電子槍

– 電子束能量 1keV–10keV

– 最小電子束斑尺寸: 3nm @10kV

– 最佳工作距離 3mm

– 高靈敏度SE檢測器

– 可升級為皮秒脈沖激光電子槍(更多信息請 參閱Chronos信息)

– 探針電流: 30pA to 300nA

光學(xué)系統(tǒng)

– 視場可達(dá) 300μm

– 集成光收集系統(tǒng): 由朗伯體發(fā)射的光子有30%離開顯微鏡(在整個視場中是恒定的)

– 消色差反射物鏡從180nm 到 1.6μm– 數(shù)值孔徑: NA 0.71 (f/0.5) 

光檢測

– 色散光譜儀,帶有兩個成像出口(320毫米焦距)和一個3光柵轉(zhuǎn)臺(Attolight提供大量衍射光柵,以匹配您的應(yīng)用),電動入口和出口狹縫用于紫外可見光(200 nm–1100 nm)測的高速CCD攝像機, 最高速度>900光譜/秒 

– 用于近紅外(600 nm–1700 nm)檢測的InGaAs攝像機最高速度>180光譜/秒

– 使用不同的探測器在200 nm–1700 nm范圍內(nèi)進(jìn)行全色檢測,最高速度>每像素50 ns

電子束感應(yīng)電流(EBIC)

– 低噪音EBIC電路板 

– 電流測量極限100fA 

– 增益10^4到10^15V/A 

– 帶寬最大 100kHz

樣品室與真空系統(tǒng)

– 無油真空泵組系統(tǒng):用于電子槍和電子柱的吸氣劑離子泵和用于樣品室的渦輪分子泵

– 一般換樣時間:20 min

– 真空門上配有電子饋通

納米定位平臺

– 6自由度,可任意移動(與低溫恒溫器兼容)

– 行程: 25mm (X,Y), 3mm (Z), 3° 傾斜(X,Y), 10° 旋轉(zhuǎn) (Z) 

– 步進(jìn): 1 nm 

– 整個行程范圍內(nèi)100 nm的重復(fù)性 

– 坐標(biāo)系統(tǒng),便于精確定位和移動

低溫恒溫系統(tǒng)

– 溫度范圍從 10K 到室溫,溫度精度0.1 K

– 先進(jìn)的數(shù)字溫度控制器 

– 溫度為10 K時,每小時漂移小于300nm

系統(tǒng)控制和檢測模塊

– 同時進(jìn)行CL(高光譜或全光譜圖譜)、SEM和EBIC檢測

– 半自動操作模式 

– 直觀的基于觸摸屏的圖形用戶界面(GUI),用于快速樣品定位和移動以及實時數(shù)據(jù)顯示,以檢查測量狀態(tài) 

– 最大圖像分辨率為4K,高光譜圖譜的最大分辨率為512×512像素,電子束停留時間最小為每像素50 ns

數(shù)據(jù)分析

– Attolight提供了強大的分析和解決方案。更多信息請參考單獨的Attomap手冊。

– 工具配置和CL數(shù)據(jù)同時保存,以便于工具配置的再現(xiàn) 

– 通過網(wǎng)絡(luò)輕松訪問受密碼保護(hù)的測量數(shù)據(jù) 

– 導(dǎo)出為開放數(shù)據(jù)格式,為用戶選擇首選的數(shù)據(jù)分析軟件提供最大的靈活性

系統(tǒng)外形規(guī)格

– 占地面積:1219 mm(長)× 1039 mm(寬)

– 推薦使用面積:2017 mm(長)× 2426 mm(寬) 

– 重量:~1110 kg 

 

 

 

 



應(yīng)用領(lǐng)域

1.納米半導(dǎo)體光學(xué)特性 

2.晶體缺陷檢測和定位(穿透位錯、層錯、摻雜物等) 

3.納米級成分波動的測定 

4.摻雜計量 

5.失效分析 

6.納米光子學(xué) 

7.其他應(yīng)用:有關(guān)動態(tài)皮秒時間分辨CL的更多應(yīng)用,請參閱Attolight Chronos手冊。有關(guān)CL測量的更多應(yīng)用和深入分析,請參閱我們網(wǎng)站上的出版物列表。

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