Allalin快速定量陰極發(fā)光 CL-SEM系統(tǒng)

在半導(dǎo)體故障分析、開發(fā)和研究中，Allalin 的光譜測量能力為快速可靠的缺陷檢測和定位供了無與倫比的解決方案。經(jīng)過驗(yàn)證的用例包括位錯(cuò)密度、材料成分波動(dòng)、應(yīng)變、摻雜劑類型和濃度的測量；以及其他廣泛的應(yīng)用。

在科學(xué)研究中，Allalin能夠創(chuàng)建納米分辨率的光譜圖，這使得它成為深入了解納米尺度物體物理特性的終極工具。

Allalin 擁有一套全面的選項(xiàng)，可為您的應(yīng)用優(yōu)化該工具的性能：覆蓋紫外 - 紅外波長范圍的各種探測器選擇、穩(wěn)定的低溫階段和高靈敏度的 EBIC（電子束感應(yīng)電流）檢測解決方案。

Allalin快速定量陰極發(fā)光 CL-SEM系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)：

·納米半導(dǎo)體光學(xué)特性

·晶體缺陷檢測和定位（螺紋位錯(cuò)、堆積缺陷、摻雜物等）

·納米級成分波動(dòng)的測定

·摻雜計(jì)量

·失效分析

·納米光子學(xué)

·在300μm的視野（FOV）范圍內(nèi)最高的收集效率

·確?；瘜W(xué)發(fā)光均勻性和再現(xiàn)性，使系統(tǒng)定量和定性。定量：在300μm的大FOV（無漸暈）下，光子收集效率恒定（±1%）；在不移動(dòng)樣本的情況下，執(zhí)行300μm的圖譜：陰極發(fā)光結(jié)果可重復(fù)且可比較。

·使用近光劑量，減少了對敏感樣品造成光束損壞的可能性。

·快！單次高光譜CL-map測量時(shí)間從18秒到30分鐘不等，而競爭對手的是30分鐘至多小時(shí)。

· 同時(shí)生成SEM圖像和高光譜CL圖像，而不會降低電子探針的尺寸。

·Schottky FEG適用于高電流密度：30 pA至300 nA

·CL模式下的掃描電鏡最高分辨率：低至3nm

·專用Attomap高光譜分析軟件

·具有低溫選項(xiàng)的高精度納米定位工作臺（10 K至室溫）