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行業(yè)應(yīng)用

  • 陰極熒光SEM-CL在半導(dǎo)體金剛石方面的應(yīng)用

    062024-03        由于金剛石的非凡性能,如極高的硬度,化學(xué)惰性,光學(xué)透明度,高導(dǎo)熱性以及電絕緣,越來(lái)越多的應(yīng)用領(lǐng)域認(rèn)識(shí)到這種材料提供的好處。特別是在涉及極高功率密度、高機(jī)械負(fù)荷或惡劣磨料條件的應(yīng)用中...

  • 原子層沉積(ALD)在半導(dǎo)體先進(jìn)制程的應(yīng)用

    302023-11         隨著集成電路工藝技術(shù)的不斷提高,晶體管的特征尺寸及刻蝕溝槽不斷減小,溝槽及其側(cè)壁的鍍膜技術(shù)面臨嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),物理氣相沉積(PVD)及化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝已經(jīng)無(wú)法滿足極小尺寸下良好的...

  • 陰極發(fā)光設(shè)備(SEM-CL)在光電與薄膜電池材料的針孔檢測(cè)方面的應(yīng)用

    182023-10        對(duì)于光伏(PV)和薄膜電池(TFB)來(lái)說(shuō),要在成本上與化石燃料和傳統(tǒng)電池競(jìng)爭(zhēng),高制造成品率至關(guān)重要。CdTe/CdS和CdS/CIGS光伏器件的CdS層以及tbs的LiPON層的針孔導(dǎo)致良率損失和性能降低。掃描電...

  • 原子層沉積技術(shù):基于化學(xué)視角

    122023-07       1、ALD表面化學(xué)機(jī)制:ALD是化學(xué)氣相沉積(CVD)的一類變種,其基本原理是將氣相前驅(qū)體以脈沖的形式交替通入反應(yīng)腔體中,氣相前驅(qū)體在基底表面發(fā)生化學(xué)吸附并進(jìn)行自限制的表面化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜的...

  • 鈣鈦礦(ALD)

    242023-04      “碳達(dá)峰”和“碳中和”一直都是能源領(lǐng)域的熱點(diǎn)話題,作為助力“雙碳”戰(zhàn)略的生力軍,光伏產(chǎn)業(yè)具有舉足輕重的地位。目前光伏的主力是硅太陽(yáng)能電池,它們具有效率高、穩(wěn)定性好、產(chǎn)業(yè)鏈完備、使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)勢(shì)...

  • 半導(dǎo)體

    242022-08        原子層沉積(ALD)技術(shù)憑借其獨(dú)特的表面自限性生長(zhǎng)原理,優(yōu)異的共形性、大面積的均勻性,可適用于復(fù)雜三維表面沉積以及深孔洞均勻填隙生長(zhǎng)等特點(diǎn),受到半導(dǎo)體行業(yè)的青睞。 雖然與CVD相比,ALD...

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